Popis

• Dosud nejúčinnější systém ochrany dýchacích cest s certifikovanou účinností
  až 99,99 %
• Vysoce kvalitní design, který zaručuje zcela vzduchotěsné uchycení podél okrajů a ne
  nevyžadují žádné holení.
• Nanotechnologie zajišťuje, že pevné částice, aerosoly a mikroorganismy jsou
  filtrovaný. Chrání také před chemickým a biologickým znečištěním a při použití
  Filtr Nano Perfection P3 chrání před všemi viry a radioaktivními látkami
  částice.
• Obličejová maska se snadno a intuitivně používá ; filtr lze vyměnit jednou rukou
  během několika sekund a bez nutnosti sundávat masku z obličeje.
• Jeho unikátní konstrukce kombinuje inhalační a výdechové filtry a částečně čistí
  sama při výdechu. Trvanlivost spotřebního materiálu je až dvojnásobná
  stejně jako ostatní produkty na trhu.
• Obličejová část masky je vyrobena ze speciálního silikonu, který splňuje nejpřísnější
  požadavky stanovené pro použití ve zdravotnictví. Vyznačuje se vysokou úrovní
  chemická odolnost (kontaktem s chemikáliemi nedochází k poškození), a
  minimální míra trvalé deformace a je extrémně odolná proti stárnutí.
• Díky své konstrukci lze respirátor Respira Compact skladovat složený
  v malé nádobě , aniž by ztratila svůj tvar. Maska neztrácí pružnost
  časem a po rozbalení získá zpět svůj původní tvar a je okamžitě připraven
  použití. Maska je výrazně odolnější než ostatní možnosti na trhu.
• Lícnice Nanologix Respira Compact s filtrem P3 byla testována v zařízeních v
  Těchonín (České centrum biologické obrany) proti zvláště nebezpečným nemocem
  klasifikované jako úroveň biologické bezpečnosti 3 (BSL 3), jako je korejská hemoragická horečka, tyfus, HIV,
  tuberkulóza a antrax a nemoci BSL 4, jako je SARS, horečka Lassa, neštovice a
• Systém Nanologix Respira byl vyvinut v českých laboratořích ve spolupráci s
  Technická univerzita v Liberci. V současnosti je využívána Armádou ČR, vědeckými a
  zdravotnických zařízení a součástí integrovaného záchranného systému.
• Součástí masky není žádný filtr. K dispozici jsou dva filtry:
  Nano Perfection P2 (prach, běžné nečistoty a nebezpečné pevné a kapalné částice)
  Nano Perfection P3 (prach, běžné nečistoty, jedovaté kapalné a pevné aerosoly, bakterie, viry
  a radioaktivní částice)